ഹാഫ്നിയം ടെട്രാക്ലോറൈഡ് | HfCl4 പൊടി | CAS 13499-05-3 | ഫാക്ടറി വില

ഹൃസ്വ വിവരണം:

ഹാഫ്നിയം ഓക്സൈഡിന്റെ മുന്നോടിയായി, ജൈവ സംശ്ലേഷണത്തിനുള്ള ഉത്തേജകമായി, ന്യൂക്ലിയർ ആപ്ലിക്കേഷനുകളായി, നേർത്ത ഫിലിം നിക്ഷേപത്തിനായി ഹാഫ്നിയം ടെട്രാക്ലോറൈഡിന് പ്രധാനപ്പെട്ട പ്രയോഗങ്ങളുണ്ട്, ഇത് വിവിധ സാങ്കേതിക മേഖലകളിൽ അതിന്റെ വൈവിധ്യവും പ്രാധാന്യവും എടുത്തുകാണിക്കുന്നു.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

ഞങ്ങൾക്ക് ഇമെയിൽ അയയ്ക്കുക

ഉൽപ്പന്ന വിശദാംശങ്ങൾ

ഉൽപ്പന്ന ടാഗുകൾ

ഉൽപ്പന്ന വിവരണം

സംക്ഷിപ്ത ആമുഖം

ഉൽപ്പന്ന നാമം: ഹാഫ്നിയം ടെട്രാക്ലോറൈഡ്
CAS നമ്പർ: 13499-05-3
സംയുക്ത സൂത്രവാക്യം: HfCl4
തന്മാത്രാ ഭാരം: 320.3
രൂപഭാവം: വെളുത്ത പൊടി

സ്പെസിഫിക്കേഷൻ

ഇനം	സ്പെസിഫിക്കേഷൻ
രൂപഭാവം	വെളുത്ത പൊടി
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200 പിപിഎം
Fe	≤40 പിപിഎം
Ti	≤20 പിപിഎം
Si	≤40 പിപിഎം
Mg	≤20 പിപിഎം
Cr	≤20 പിപിഎം
Ni	≤25 പിപിഎം
U	≤5 പിപിഎം
Al	≤60 പിപിഎം

അപേക്ഷ

ഹാഫ്നിയം ഡയോക്സൈഡ് പ്രീകർസർ: മികച്ച ഡൈഇലക്ട്രിക് ഗുണങ്ങളുള്ള ഒരു വസ്തുവായ ഹാഫ്നിയം ഡയോക്സൈഡ് (HfO2) ഉത്പാദിപ്പിക്കുന്നതിനുള്ള ഒരു മുന്നോടിയായി ഹാഫ്നിയം ടെട്രാക്ലോറൈഡ് പ്രധാനമായും ഉപയോഗിക്കുന്നു. സെമികണ്ടക്ടർ വ്യവസായത്തിലെ ട്രാൻസിസ്റ്ററുകൾക്കും കപ്പാസിറ്ററുകൾക്കുമുള്ള ഹൈ-കെ ഡൈഇലക്ട്രിക് ആപ്ലിക്കേഷനുകളിൽ HfO2 വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു. ഹാഫ്നിയം ഡയോക്സൈഡിന്റെ നേർത്ത ഫിലിമുകൾ രൂപപ്പെടുത്താനുള്ള കഴിവ് കാരണം നൂതന ഇലക്ട്രോണിക് ഉപകരണങ്ങളുടെ നിർമ്മാണത്തിൽ HfCl4 അത്യാവശ്യമാണ്.
ഓർഗാനിക് സിന്തസിസ് കാറ്റലിസ്റ്റ്: വിവിധ ഓർഗാനിക് സിന്തസിസ് പ്രതിപ്രവർത്തനങ്ങൾക്ക്, പ്രത്യേകിച്ച് ഒലെഫിൻ പോളിമറൈസേഷന്, ഹാഫ്നിയം ടെട്രാക്ലോറൈഡ് ഒരു ഉത്തേജകമായി ഉപയോഗിക്കാം. ഇതിന്റെ ലൂയിസ് ആസിഡ് ഗുണങ്ങൾ സജീവമായ ഇടനിലക്കാരെ രൂപപ്പെടുത്താൻ സഹായിക്കുന്നു, അതുവഴി രാസപ്രവർത്തനങ്ങളുടെ കാര്യക്ഷമത മെച്ചപ്പെടുത്തുന്നു. രാസ വ്യവസായത്തിലെ പോളിമറുകളുടെയും മറ്റ് ജൈവ സംയുക്തങ്ങളുടെയും ഉത്പാദനത്തിൽ ഈ പ്രയോഗം വിലപ്പെട്ടതാണ്.
ന്യൂക്ലിയർ ആപ്ലിക്കേഷൻ: ഉയർന്ന ന്യൂട്രോൺ ആഗിരണം ക്രോസ് സെക്ഷൻ കാരണം, ഹാഫ്നിയം ടെട്രാക്ലോറൈഡ് ന്യൂക്ലിയർ ആപ്ലിക്കേഷനുകളിൽ, പ്രത്യേകിച്ച് ന്യൂക്ലിയർ റിയാക്ടറുകളുടെ കൺട്രോൾ റോഡുകളിൽ വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു. ഹാഫ്നിയത്തിന് ന്യൂട്രോണുകളെ ഫലപ്രദമായി ആഗിരണം ചെയ്യാൻ കഴിയും, അതിനാൽ ഇത് ഫിഷൻ പ്രക്രിയയെ നിയന്ത്രിക്കുന്നതിന് അനുയോജ്യമായ ഒരു വസ്തുവാണ്, ഇത് ആണവോർജ്ജ ഉൽപാദനത്തിന്റെ സുരക്ഷയും കാര്യക്ഷമതയും മെച്ചപ്പെടുത്താൻ സഹായിക്കുന്നു.
തിൻ ഫിലിം ഡിപ്പോസിഷൻ: ഹാഫ്നിയം ടെട്രാക്ലോറൈഡ് കെമിക്കൽ നീരാവി നിക്ഷേപം (CVD) പ്രക്രിയകളിൽ ഹാഫ്നിയം അധിഷ്ഠിത വസ്തുക്കളുടെ നേർത്ത ഫിലിമുകൾ രൂപപ്പെടുത്തുന്നതിന് ഉപയോഗിക്കുന്നു. മൈക്രോഇലക്ട്രോണിക്സ്, ഒപ്റ്റിക്സ്, സംരക്ഷണ കോട്ടിംഗുകൾ എന്നിവയുൾപ്പെടെ വിവിധ ആപ്ലിക്കേഷനുകളിൽ ഈ ഫിലിമുകൾ അത്യാവശ്യമാണ്. ഏകീകൃതവും ഉയർന്ന നിലവാരമുള്ളതുമായ ഫിലിമുകൾ നിക്ഷേപിക്കാനുള്ള കഴിവ് നൂതന നിർമ്മാണ പ്രക്രിയകളിൽ HfCl4 നെ വിലപ്പെട്ടതാക്കുന്നു.